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• 濺射靶材
  • 半導(dǎo)體制造設(shè)備的濺射靶材
    半導(dǎo)體制造設(shè)備的濺射靶材

    先進(jìn)的薄膜材料，ULVAC的半導(dǎo)體用靶材，以
    ?低particle
    ?均勻的薄膜厚度分布
    ?使用效率高
    作為品質(zhì)目標(biāo)，對每種材料研討制造方法，進(jìn)而開發(fā)制造的高品質(zhì)濺射靶。
    

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  • IGZO靶材
    IGZO靶材

    ULVAC制造和銷售IGZO TAOS（使用In，Ga，Zn，O透明Amorphous氧化物半導(dǎo)體）中使用的IGZO靶。 為了抑制particle，靶材的高密度化?減少靶材的分割數(shù)量，正在向全球大多數(shù)顯示器制造商提供高質(zhì)量的IGZO靶材，IGZO用濺射設(shè)備和IGZO工藝。 此外，ULVAC成功開發(fā)出長度約為3米的大型IGZO靶材。 期待這個大型的IGZO靶材將徹底解決TFT特性的劣化。

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