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• Load-lock式Plasma CVD設備 CC-200/400
  

  Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發到量產的設備。

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  • 產品特性 / Product characteristics
  • • 27.12MHz高密度等離子制程
    • SiH₄系：SiO2、SiN_x、SiON、a-Si、TEOS系：可對應SiO₂膜
    • 以CF₄+O₂ Plasma實現腔體清潔功能
    • 可對應有機EL（OLED）的低溫成膜用Heater
    • 使用Tray可搬送多種基板尺寸
    • 通過使用真空Box實現C系列的間接連續制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）
     
  • 產品應用 / Product application
  • • 功率器件
    • LED、LD、高速Device等化合物相關
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    • MEMS
     
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