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• 高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H
  

  高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高難度刻蝕材料（強電介質層、貴金屬、磁性膜等）的Multi-Chamber型低壓高密度等離子刻蝕設備。

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  • 產品特性 / Product characteristics

  • • 有磁場ICP（ISM）方式-可產生低圧?高密度plasma、為不揮發性材料加工的專用設備。
    

    • 可提供對應從常溫到高溫（400ºC）的層積膜整體刻蝕、硬掩膜去除的刻蝕解決方案。
    • 通過從腔體到排氣Line、DRP為止的均勻加熱來防止沉積物。
    • 該設備采用可降低養護清洗并抑制partical產生的構造和材料及加熱機構，是在不揮發性材料的刻蝕方面擁有豐富經驗的量產裝置。
    • 實現了長期的再現性、安定性
     

     

  • 產品應用 / Product application

  •  • FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.

  • 產品參數 / Product parameters
• 產品系列

  • 設備(按類型分)
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