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• 對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
  

  對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產用干法刻蝕裝置。（可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

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  • 產品特性 / Product characteristics

  • •      在潔凈房內作業可擴張為雙腔。（可選配腔室：NLD、有磁場ICP、CCP或者去膠室）

    • NLD為時間空間可控的等離子，因此設備干法清潔容易。
    • 腔體維護簡便。
    • 從掩模刻蝕到石英、玻璃刻蝕，可提供各類工藝解決方案。
    • 專門的半導體技術研究所會提供完備的工藝支持體制。
     
  • 產品應用 / Product application
  • • 光學器件（折射格子、光波導、光學開關等等）、凹凸型微透鏡。
    • 流體路徑作成或光子學結晶。
  • 產品參數 / Product parameters
• 產品系列

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