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• 研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570
  

  研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發科磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。

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  • 產品特性 / Product characteristics

  •  • NLD用于與ICP方式相比更低壓、高密度、更低電子溫度等離子體的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工。

    • 高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不純物的多種玻璃加工，在形狀或表面平滑性方面有優異的刻蝕性能。
    • 石英及玻璃作為厚膜resist mask時的也可實現深度刻蝕（100μ m以上）。
    • 可實現高速刻蝕（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）
    • 可追加cassette室。
     
  • 產品應用 / Product application

  •  •       光學器件（光衍射格子、変調器、光開關等等）、凹凸型微透鏡。流體路徑作成或光子學結晶。

     
  • 產品參數 / Product parameters
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