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• 量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800
  

  量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。

  購買咨詢

  若想了解更多請致電182-2185-4021

  • 產品特性 / Product characteristics

  •  •      除單腔之外，另可搭載有磁場ICP（ISM）或NLD等離子源、去膠腔體、CCP腔體等對應多種刻蝕工藝。

     • 為實現制程再現性及安定性搭載了星型電極及各種調溫技能。

     • 擁有簡便的維護構造，縮短了downtime，提供清洗、維護及人員訓練服務等綜合性的售后服務體制。

     • 專門的半導體技術研究所會提供完備的工藝支持體制。

     
  • 產品應用 / Product application
  • • 化合物（LED或LD、高頻器件）或Power device（IGBT配線加工、SiC加工）。
    • 金屬配線或層間絕緣膜（樹脂類）、門電極加工工藝
    • 強電介質材料或貴金屬刻蝕。
    • 磁性體材料加工。
     
  • 產品參數 / Product parameters
• 產品系列

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