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• 可對應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30
  

  低加速、高濃度對應(yīng)的離子注入設(shè)備。

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  • 產(chǎn)品特性 / Product characteristics

  • • 枚葉式

    • 可對應(yīng)薄片
    • 非質(zhì)量分離機(jī)的對比優(yōu)點(diǎn)
             1)對應(yīng)低加速.高濃度的好產(chǎn)能離子注入設(shè)備
             2)相比過去約一半的低價(jià)
             3)相比過往設(shè)備占用面積為1/3的緊湊型設(shè)計(jì)
     

     

  • 產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
  • • Power Device等薄片基板工藝、IGBT工藝
     
  • 產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters

  •  • 基板尺寸：Max200mm

• 產(chǎn)品系列

  • 設(shè)備(按類型分)
    蒸發(fā)設(shè)備 退火設(shè)備 蒸餾設(shè)備 氦檢漏設(shè)備 凍結(jié)干燥設(shè)備 卷繞設(shè)備 真空爐 CVD設(shè)備 離子注入設(shè)備 去膠設(shè)備 濺射設(shè)備 刻蝕設(shè)備 其他
  • 設(shè)備(按用途分)
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